等离子体浸没式离子注入离子束增强沉积(PIIIIBAD) Plasma immersion ion implantation-ion beam assisted deposition (PIII-IBAD
离子注入-离子植入 ion concentration; invisible range
分子离子注入 molecular ion injection
Ag离子注入 silver ion implantation
Al离子注入 Al ion implantation
Ar离子注入 Ar ion implanted
C(+)离子注入 C(+) implantation
C+Ti双离子注入 C+Ti dual ion implantation
C+W+C双重离子注入 Tungsten plus carbon multi-implantation
Cr离子注入 Cr(superscript +) implantion
Cu离子注入 Cu ion implantation; copper ion implantation
C离子注入 C-ion implantation
Er离子注入硅 Er ion implanted Si
Fe离子注入 Fe ion implantation
F离子注入和势垒层腐蚀 F ions implantation and etching of barrier layer
He离子注入 He ion implantation; Silicon; conductiv ity modulation
InSb离子注入 InSb ion implantation
MEVVA源离子注入 ion implantation by MEVVA source
MeV级3He离子注入 MeV level He implantation